Les épreuves de sélection sont différentes selon que vous souhaitez suivre la formation en cursus complet ou en cursus partiel.

Vous pouvez vous inscrire en sélection Cursus partiel si vous êtes titulaire :
1. d’un bac professionnel ASSP ou SAPAT, ou si vous êtes en classe terminale professionnel ASSP ou SAPAT
2. d’un DEAS, DEAMP, DEAVS ou d’un tittre professionnel MCAD

Si vous n’avez pas un de ces diplômes ou titre, vous devez vous inscrire en cursus complet.

Calendrier de la sélection 2017

Vous trouverez ci-dessous pour le CURSUS COMPLET:
-Les informations générales sur les épreuves de sélection pour le cursus complet
-Le dossier téléchargeable cursus complet mis en ligne à partir du mercredi 2 novembre 2016 : dossier d’inscription cursus complet 2017

Vous trouverez ci-dessous pour les ASSP – SAPAT :
-Une information spécifique destinée aux titulaires des Bacs PRO ASSP et SAPAT et aux élèves de terminale de ces Bacs PRO disponible en utilisant le lien suivant INFO BAC PRO ASSP ET SAPAT
-Le dossier téléchargeable pour les bacs ou classes terminales ASSP – SAPAT mis en ligne à partir du mercredi 2 novembre 2016 : dossier sélection cursus partiel assp sapat 2017
-Deux reunions spécifiques destinées aux titulaires des Bacs PRO ASSP et SAPAT et aux élèves de terminale de ces bacs PRO sont organisées par l’IFAP les mercredi 12 octobre et 23 novembre après-midi.
Pour plus d’information : RÉUNION INFO BAC PRO ASSP ET SAPAT
Pour participer à une réunion, compléter le coupon-reponse-reunions-bacs-pro-2016

Vous trouverez ci-dessous pour les DEAS, DEAMP, DEAVS et MCAD :
-Une information spécifique destinée aux titulaires des DEAS, DEAMPS, MCAD et DEAVS disponible en utilisant les liens suivant INFO AS ou INFO AMP ou INFO DEAVS – MCAD
-le dossier téléchargeable pour titulaire des DEAS, DEAMP, MCAD et DEAVS à partir du mercredi 2 novembre 2016 : dossier sélection cursus partiel as amp mcad 2017

A l’IFAP de St Etienne, une inscription en cursus complet annule la possibilité de s’inscrire en cursus partiel et inversement.